硅晶圓工藝特氣管道系統(tǒng)是半導體制造的 “氣體輸送動脈”，負責將光刻、蝕刻、沉積等關鍵制程所需的特種氣體(如 Cl2、NH3、SiH4 等)精準輸送至反應腔室，直接決定晶圓圖案精度與成品良率，對氣體純度要求達 ppb 級以下。?

1、為什么需要使用過濾器??

硅晶圓制程中，哪怕 0.1μm 的微粒、微量油霧或碳氫化合物，都可能導致晶圓缺陷、光刻膠失效或設備腔室污染，造成巨額生產成本損失。特氣管道在安裝、輸送過程中易殘留塵埃、鐵銹，且特氣本身可能攜帶雜質，必須通過專業(yè)過濾器實現(xiàn)深度凈化。?

2、過濾器介紹?

恒歌 HF 系列高壓氣體專用過濾器，專為硅晶圓工藝特氣管道系統(tǒng)量身打造，采用 316L 不銹鋼一體結構，50Mpa 設計壓力適配特氣高壓輸送場景，兼具高強度與輕量化優(yōu)勢?？筛咝V除氣體中 0.003μm 以上的微粒、油霧及碳氫化合物，濾芯經 100% 完整性測試與氨氣泄露檢測，確保特氣純度符合半導體制造標準。?

3、過濾器特點?

??整體 316L 不銹鋼材質，耐腐蝕性強，適配各類腐蝕性特氣?

??輕量化、小型化設計，螺紋連接節(jié)省安裝空間，兼容 C/W 型密封規(guī)格?

??耐高溫(600℃)、耐高壓(50Mpa)，適配極端制程環(huán)境?

??過濾效率達 99.999%，不易堵塞，保障氣體輸送穩(wěn)定性?

??濾芯可快速更換，安裝檢修無需復雜工具?

??100% 完整性測試 + 氨氣泄露檢測，零泄漏風險?

4、產品應用?

半導體硅晶圓制造(28nm 及以下先進制程)、LED 芯片制造、半導體封裝測試等領域的特氣管道系統(tǒng)凈化。?

5、常見問答?

Q：過濾精度能否滿足硅晶圓先進制程要求??

A：支持 0.003μm~120μm 多規(guī)格濾芯，可實現(xiàn) ppb 級雜質去除，完全適配 7nm/5nm 制程特氣凈化需求。?

Q：能否兼容含氟、含氯等腐蝕性特氣??

A：316L 不銹鋼結構 + 專用密封材質，可安全適配 HF、Cl2 等強腐蝕性特氣，無材質反應風險。?

Q：維護周期多久?更換濾芯是否影響生產??

A：常規(guī)使用下濾芯壽命 6~12 個月，快拆式設計可在 30 分鐘內完成更換，建議配備備用濾芯實現(xiàn)無縫切換。?

Q：過濾器會產生氣體壓降嗎??

A：優(yōu)化流道設計，壓降≤0.05Mpa，不影響特氣輸送流速與系統(tǒng)壓力穩(wěn)定性。?

6、選型指引?

若您不確定濾芯精度、接口規(guī)格或特氣適配性，歡迎聯(lián)系我們，提供制程參數(shù)即可獲得定制化選型方案!